机译:斜角沉积和热处理对射频溅射ITO薄膜光学性能的影响
Department of Applied Physics CINVESTAV-IPN Unity Mérida. 97310 Mérida Yucatán México;
Materials Science Laboratory Faculty of Engineering University of Yucatan CP 97130 Mérida Yuc. México;
Instituto de Ciencia y Tecnología de Materiales Universidad de La Habana Zapata s/n esq. G Vedado Plaza La Habana 10400 Cuba;
机译:环境和热处理对射频溅射SnO_2薄膜光学性能的影响
机译:组成对变化的O_2气流射频溅射沉积非晶In-Ga-Zn-O薄膜光学和电学性质的影响
机译:N_2气氛中的热处理对铟锡氧化物和氮掺杂铟锡氧化物射频溅射薄膜的化学,微结构和光学性能的影响
机译:准分子激光退火对射频沉积GaN薄膜光学性能的影响磁控溅射
机译:氢退火和衬底温度对射频溅射氧化锌薄膜性能的影响
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:沉积过程中O2压力对射频溅射sn掺杂In2O3薄膜性能的影响。