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孟宪权; 范湘军;
不详;
薄膜生长; 平面磁控溅射; 生长速率; 厚度; 均匀性;
机译:通过摆动旋转运动改善薄膜厚度均匀性和成膜颗粒入射角均匀性
机译:ALD在100℃和350℃之间生长的HfO_2薄膜的层生长速率,厚度均匀性,化学计量和氢杂质水平的相关性研究
机译:旋转旋转磁控溅射沉积薄膜的厚度均匀性
机译:等离子体模拟中磁控溅射光学层厚度均匀性的计算优化-基于粒子的理论与实验比较
机译:水成膜泡沫(ARFF)消防射流的实验流量表征和计算模型开发。
机译:微型计算机断层扫描评估Invisalign对准器厚度均匀性
机译:高转变温度铜氧化物薄膜的磁控溅射和激光成膜
机译:中子照射中不锈钢空洞生长速率的计算机计算
机译:平面磁控溅射源可提高涂层厚度均匀性,台阶覆盖率和台阶覆盖率均匀性
机译:可以将两种模式的磁通量分布(平衡模式/不平衡模式)从一种切换到另一种的磁控溅射装置,以及一种使用该装置由无机成膜材料形成膜的成膜方法,以及一种双模式磁控溅射装置及成膜方法,使用该装置由无机成膜材料在低温下成膜
机译:可以切换两种磁通分布模式(平衡模式/非平衡模式)的磁控溅射设备,使用该设备和双模式磁控溅射设备形成无机成膜材料的膜的成膜方法,以及使用该装置在低温下形成膜的无机成膜材料的成膜方法
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