过滤式阴极电弧沉积类金刚石薄膜工艺的研究

摘要

本文研究了过滤式阴极电弧沉积系统的稳弧工艺参数，通过正交试验获得最佳稳弧参数，并且研究了弯管内置挡板对宏观粒子过滤效果的影响，采用喇曼光谱研究了偏压对生成的类金刚石薄膜性能的影响，证明－１００Ｖ偏压下，获得的类金刚石薄膜有最佳的ｓｐ＾３含量，扫描电镜测试表明，在（１１１）硅基片上获得致密的膜，但在高速钢基体上沉膜堆积现象比较严重，不易获得优质类金刚石膜。