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卫冰;
无;
硅团粒阳离子; 硅烷等离子体; 等离子体源;
机译:通过远程氢等离子体化学气相沉积使用氨基硅烷和硅烷前体制备的硬硅碳氮化型薄膜涂层。 1:沉积机构,化学结构和表面形态
机译:从烷基硅烷和烷基碳硅烷单源进行远程氢等离子体化学气相沉积:生成硅碳沉积物的过程机理和性质
机译:用氨基硅烷和硅氮烷前体远程氢等离子体化学气相沉积硬硅碳氮化型薄膜涂层。 2:沉积薄膜的物理,光学和机械性能
机译:从烷基硅烷和烷基碳硅烷单源进行远程氢等离子体化学气相沉积:形成硅碳沉积物的过程机理和性质
机译:高密度硅烷等离子体中纳米级硅粒子的形成及其应用。
机译:阳离子多聚(四氢呋喃-κO)锂(I)-双(μ-三甲基硅烷醇基-κ2 O:O)-镓(III)-双(μ-三甲基硅醇基-κ2 O:O)-(四氢呋喃-κO)锂(I)-μ-溴代甲烷
机译:远程硅烷等离子体中阳离子硅团簇的形成及其对氢化非晶硅膜生长的贡献
机译:氩和氢对冷等离子体中四氯硅烷中硅沉积的影响
机译:用于通过等离子体CVD形成含硅膜的有机硅烷化合物和形成含硅膜的方法
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