0.8—1μm分步重复投影光刻机六自由度硅片定位系统设计与计算

摘要

介绍用于０．８－１μｍ分步重复投影光刻的机的六自由硅片定位系统。讨论了气足，承片台系统及ＳＴＡＭＰ的设计和计算方法，并给出了设计数据与计算结果。