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付永启;
不详;
动态目标发生器; 掩模板; 光刻;
机译:激光干涉光刻技术制备高均匀度的4英寸纳米图形晶圆
机译:晶圆变形对热纳米压印光刻图形制作的影响
机译:迈向通过扫描全息光刻技术制造的晶圆尺寸灵活的3D光子晶体模板
机译:电子束光刻光刻胶的研制与应用。
机译:SU-8光刻胶的185 nm扩散光光刻技术原型制作的具有轴突分离的微流体长期梯度发生器
机译:用全晶圆模板光刻制造的柔性聚酰亚胺基材上的有机薄膜晶体管
机译:桑迪亚极紫外光刻工具晶圆定位系统的研制
机译:通过离子注入到非晶碳膜中的高蚀刻选择性硬掩墩材料的研制
机译:制作光刻模板,光刻模板毛坯和光刻模板的方法
机译:光刻模板包装方法,用于包装光刻模板的指南会员以及光刻模板包装装置
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