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掠出射微区X射线荧光分析系统的建立及其在薄膜分析中的应用

         

摘要

建立了应用导管X光透镜的掠出射微区X射线荧光分析系统,并将该系统应用于纳米薄膜的分析.为了提高入射X射线的强度并提高系统的空间分辨率,选用焦斑为41.7 μm的会聚透镜对原级X射线进行会聚,并在探测器前加上50 μm的狭缝以提高掠出射角扫描的角度分辨率.为了提高工作效率,编写了该系统的自动控制软件,实现了样品的自动扫描.利用该系统对采用金属蒸汽真空电弧(MEVVA)源离子束和薄膜沉积技术制备的纳米薄膜进行了掠入射X射线荧光和二维扫描分析.实验结果表明:该系统能有效地分析纳米厚度的薄膜,通过对薄膜进行掠出射角扫描分析和表面的二维扫描分析,得到了薄膜的厚度,密度及均匀性等信息.微区分析的空间分辨率可达到41.7 μm,实际空间分辨率为扫描步长50 μm.系统可用于分析薄膜样品,且荧光强度高,所需时间短,获得的信息全面丰富,数据可靠.

著录项

  • 来源
    《光学精密工程》 |2009年第1期|26-32|共7页
  • 作者单位

    北京师范大学,射线束技术与材料改性教育部重点实验室核科学与技术学院,北京市辐射中心,北京,100875;

    北京师范大学,射线束技术与材料改性教育部重点实验室核科学与技术学院,北京市辐射中心,北京,100875;

    中国科学院,高能物理研究所,北京,100039;

    北京师范大学,射线束技术与材料改性教育部重点实验室核科学与技术学院,北京市辐射中心,北京,100875;

    北京师范大学,射线束技术与材料改性教育部重点实验室核科学与技术学院,北京市辐射中心,北京,100875;

    北京师范大学,射线束技术与材料改性教育部重点实验室核科学与技术学院,北京市辐射中心,北京,100875;

    Department of Applied Chemistry, Graduate School of Engineering, Osaka City University,Sugimoto 3-3-138, Sumiyoshi-ku Osaka 558-8585, Japan;

    北京师范大学,射线束技术与材料改性教育部重点实验室核科学与技术学院,北京市辐射中心,北京,100875;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 应用;薄膜测量与分析;
  • 关键词

    毛细管X射线光学器件; 掠出射X射线荧光; 全反射; 薄膜分析;

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