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石峰; 万稳; 戴一帆; 彭小强;
国防科技大学机电工程与自动化学院湖南超精密加工技术重点实验室,湖南长沙410073;
磁流变抛光; 熔石英; 光学元件; 氢氟酸(HF)动态刻蚀; 激光损伤阈值;
机译:刻蚀对1064 nm激光辐照下人工缺陷的激光损伤特性的影响
机译:熔融石英基体的离子束刻蚀对355 nm减反射膜的激光损伤特性的影响
机译:表面裂缝对光学材料激光诱导的热损伤特性的影响
机译:离子束刻蚀对KDP晶体激光损伤特性的影响
机译:玻璃磁流变抛光(MRF)中材料去除的机理。
机译:基于不同波长效应的纳秒脉冲激光辐照多晶硅损伤特性的研究
机译:磁流变抛光过程中材料去除的研究。 1998年大学高中三年级青少年研究项目。罗彻斯特激光能量学实验室:学生研究报告
机译:使用先进的磁流变抛光技术去除影响钛蓝宝石光学质量的晶格缺陷
机译:3D磁流变抛光装置和磁流变抛光液
机译:用于将激光辐射施加到布置在工作区域中的工件的部分反射/透明区域上的装置,包括产生激光辐射的激光源和影响激光辐射的光学单元
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