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杨旺; 黄玮; 尚红波;
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,吉林长春130033;
中国科学院大学,北京100049;
光刻; 光学设计; 光刻投影物镜; 畸变; 勒让德多项式; 公差分析;
机译:电子投影光刻掩模格式层应力测量及图案转移畸变的模拟
机译:演示三层镜物镜在超紫外线显微镜下的30 nm空间分辨率:通过观察光刻掩模进行成像测试
机译:使用三层多层镜的高放大倍率物镜在波长下进行极端紫外线光刻掩模观察
机译:电子束投影光刻掩模上图案转移引起的图像放置畸变的评估和比较
机译:基于立体光刻的掩模图像投影变形控制
机译:基于双算子的模式转移路径规划和数字掩模投影光刻的双群蚁群算法
机译:改进的X射线光刻掩模技术的畸变分析
机译:软X射线投影光刻掩模中缺陷的表征和可能的修复。
机译:具有不同曝光角度分布的投射光产生曝光单元和用于物镜中的成像掩模版的折反射投影物镜的微光刻投影设备
机译:用于微光刻的投影物镜,具有该投影物镜的微光刻投影曝光设备,用于生产组件的微光刻工艺以及使用该方法生产的组件
机译:用于微光刻的投影物镜,具有该投影物镜的微光刻投影曝光设备,用于组件的微光刻制造工艺以及使用该方法制造的组件
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