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王旭智;
微结构; 制作; 液晶显示; 实时掩模; 微轴锥体; 锯齿形光栅; 胰蛋白酶刻蚀技术; 光刻;
机译:用于FPD的大型光掩模的最新技术趋势多色调掩模和新的曝光技术有助于降低大型TFT-LCD的成本
机译:使用共形相位掩模直接制作3D周期性无机微结构
机译:长时间LCD-TFT光刻工艺中光掩模表面污染的生长机理和抑制技术
机译:LCD实时掩膜技术制造任意形状的微结构
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:使用灰度光刻技术实现微混合器的三维(3D)微结构制造的单一乳化掩模的实现
机译:使用LCD掩模(第2型报告)的非粘蛋白微立体刻录物 - 使用LCD Live-Motion Match-本层层压制造 -
机译:利用新型适形X射线掩模技术制作平行准一维线材
机译:单颗粒膜蚀刻掩模和单颗粒膜蚀刻掩模的制造方法,使用单颗粒膜蚀刻掩模的微结构的制造方法以及通过微结构制造方法制造的微结构
机译:用于微电子,纳米技术和微系统技术中用于产生微结构的薄层掩模是通过有选择地通过CVD辐照施加在基板上的一层来生产的
机译:用于在固体表面上产生微结构的激光系统的掩模和/或膜片,微结构以及用于生产这些掩模和/或膜片以及该微结构的设备
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