煅烧水滑石表征及其对氟离子的吸附性能研究

摘要

cqvip:通过化学共沉淀法制备Mg/Al水滑石(HT),对其进行煅烧处理得到产物煅烧水滑石(C-HT),利用X射线衍射(XRD)、傅里叶红外变换光谱仪(FT-IR)及扫描电镜(SEM)对材料C-HT进行表征分析,结合静态吸附试验研究F^-初始质量浓度、吸附剂浓度、溶液初始pH值等对F^-吸附效果的影响,以及吸附剂对F-的吸附动/热力学特征。结果表明,吸附剂浓度及溶液pH值对吸附效果有明显影响,且其对F^-的吸附符合Lagergren准二级吸附动力学方程和Langmuir等温吸附方程,煅烧水滑石对F^-的去除机制以化学吸附为主,其去除机理为水滑石晶体结构重建过程中的氟离子插层。