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高纯电子铝箔在HCl-H2C2O4中的电解腐蚀行为

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摘要

在HCl-H2C2O4中电解高纯低压电子铝箔,控制合适的电解温度、[Cl-]含量、[Al3+]/[H+]比值及一定的腐蚀电量,可获得较高质量的电解电容器用电极箔.

著录项

来源
《新技术新工艺》 |2004年第2期|48-50|共3页
作者
殷禄华; 王建中;
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作者单位

南通三圣石墨设备科技有限公司,226008;

江苏中联科技集团,226361;

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正文语种 chi
中图分类电化学工业;
关键词
低压铝箔 H2C2O4 电解腐蚀;

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