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低共熔化合物辅助化学沉淀法制备NiO纳米晶体

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以Ni(NO3)2和NH4HCO3为原料,用化学沉淀法制备出的前驱体,经加入低共熔混合物煅烧后,得到粒度分布均匀、分散性较好的立方相纯NiO纳米晶体,平均粒度约为25nm.考察了低共熔混合物的加入对NiO粒度和形貌的影响情况,并初步探讨了低共熔混合物在纳米NiO制备过程中的作用机理.

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来源
《化工新型材料》 |2006年第5期|13-15|共3页
作者
王少飞; 施利毅; 冯欣; 马书蕊;
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作者单位

上海大学理学院化学系,上海,200444;

上海大学理学院化学系,上海,200444;

上海大学纳米科学与技术研究中心,上海,200444;

上海大学材料科学与工程学院,上海,200072;

上海大学理学院化学系,上海,200444;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类工程材料学;
关键词
沉淀法; 纳米NiO; 低共熔混合物;

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