日本筑波大学成功制备出HDD记录介质钴铁氧体垂直磁化膜

摘要

日本筑波大学喜多英治教授等人的研究小组和高能加速器研究机构（KEK）、北海道大学合作，成功制备出具有垂直磁各向异性的HDD用记录介质材料CoxFe3-xO4单晶薄膜，新材料性能可与目前使用的CoCrPt合金媲美。由于原料不使用价格昂贵的铂，成膜方法采用的是生产CoCrPt合金薄膜用的量产性优异的磁控溅射法（MS），因此成本可大幅下降。今后将与HDD生产企业共同探讨新材料作为记录介质的最佳性能等问题，进一步提高实用性方面的磁性能。