电子束作图装置

摘要

电子束作图装置(以下写为EB装置)约在二十年前就作为加工微细图形而公开发表了、虽然,在以后的时间里没有很快用于生产,但在约十年前它作为光掩模的作图装置就已实用化了,从而它被公认为半导体制造装置。