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刘雄飞; 张云芳; 肖剑荣; 李幼真;
中南大学,物理科学与技术学院,长沙,410083;
rf-PECVD; a-C:F薄膜; 热稳定性;
机译:双键配置对氢稀释溅射低氢浓度低介电常数的氟化非晶碳薄膜热稳定性的影响
机译:C_4F_8和Si_2H_6 / He用于低介电常数金属间层电介质的氟化非晶碳薄膜的等离子体化学气相沉积生长
机译:低介电常数氟化非晶碳膜的电学性能研究
机译:具有低介电常数和热稳定性的氟化非晶碳薄膜的沉积
机译:溶胶-凝胶法制备氧化镁,纳米晶镁和氟化钡陶瓷薄膜,以及溶胶-凝胶法制备的氟化物取代的滑石的晶体化学性质和热稳定性。
机译:脉冲等离子体化学气相沉积法制备纳米多孔非晶碳化硼薄膜的摩擦学和热稳定性研究
机译:氮的添加对氟化非晶碳薄膜性能和热稳定性的影响
机译:金属与非晶蒸发Ge薄膜和非晶溅射si薄膜接触的研究
机译:改善氟化非晶碳低介电常数材料热稳定性的方法
机译:氟化非晶碳低介电常数材料的热稳定性提高方法
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