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纳米级超精密平面抛光机工件微量去除的控制方法

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摘要

研制了一种采用专家数据库智能控制系统的纳米级超精密平面抛光机,对几种功能陶瓷进行了平面抛光实验,并分析了修整环型抛光机抛光过程中工件材料的去除函数,即材料总去除量与抛光盘转数(抛光路径长度)之间的关系.

著录项

来源
《机械工程师》 |2003年第9期|44-46|共3页
作者
常敏; 袁巨龙; 吕冰海; 赵文宏; 潘峰;
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作者单位

浙江工业大学,机电学院,浙江,杭州,310014;

浙江工业大学,机电学院,浙江,杭州,310014;

浙江工业大学,机电学院,浙江,杭州,310014;

浙江工业大学,机电学院,浙江,杭州,310014;

浙江工业大学,机电学院,浙江,杭州,310014;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类抛光;
关键词
超精密抛光; 材料去除; 抛光路径长度; 控制方法;

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