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王岩; 李杰欣; 杨亮;
厦门理工学院福建省功能材料及应用重点实验室 厦门;
厦门市云天半导体科技有限公司 厦门;
光刻; 光刻胶; 显影不洁; 参数优化;
机译:使用JSR THB-151N负性UV光刻胶的先进晶圆级封装应用的厚光刻胶工艺
机译:使用光刻和反应离子蚀刻技术来研究负光刻胶的最佳参数在Si上制备V型沟槽衍射光栅
机译:通过径向基神经网络优化晶圆制造中光刻的光刻胶涂层工艺:案例研究
机译:用于193 nm光刻应用的负性CVD光刻胶的工艺优化
机译:研究激光熔覆磁珠几何形状以进行工艺参数设置,以进行有效的参数选择,仿真和优化。
机译:巨型芦苇水热转化为糠醛和乙酰丙酸的工艺:微波辐射工艺的优化和独特的农艺参数研究
机译:负性干膜光刻胶的动力学研究
机译:用于交叉电容器结构制作的厚负光刻胶的优化。
机译:在光刻工艺中优化光刻胶曝光参数的方法及实现该方法的装置
机译:负色调显影光刻工艺的全芯片快速模拟方法,负色调显影光刻胶模型、OPC模型和电子器件
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