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磁控溅射技术; 高功率脉冲; 工业领域; 工具工业; 新技术;
机译:一种有效的证据和测量高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)的金属离子部分用PT,AU,Pd和混合靶标测量高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)
机译:高功率脉冲不平衡磁控溅射的放电性能%高功率脉冲不平衡磁控溅射的放电性能
机译:高功率脉冲磁控溅射和直流磁控溅射技术沉积的低电阻率Ru_(1-x)Ti_xO_2薄膜
机译:结合高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)和直流或中频频率的新型叠加脉冲等离子体技术
机译:用于互连金属化的高功率脉冲磁控溅射和调制脉冲功率溅射的比较。
机译:高功率脉冲磁控溅射
机译:高功率脉冲磁控溅射和不平衡磁控溅射技术相结合产生的多层氮化铬/氮化铌涂层的缺陷生长
机译:提高用于高重复频率,短脉冲,高功率脉冲发生器的功率mOsFET的开关性能
机译:高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)的闪频抑制和脉冲
机译:SP3高功率脉冲磁控溅射工艺,可实现高密度,高SP3含量的层
机译:实现高密度,高SP3含量的高功率脉冲磁控溅射工艺
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