射频磁控溅射法制备NiAl纳米晶化合物涂层

摘要

介绍一种利用射频磁控溅射法和一个由纯Ni和纯Al合成的特制靶材制备NiAl纳米晶涂层的新工艺，涂层可沉积在工业纯铝、不锈钢以及硼硅酸盐玻璃等多种基体上。XRD 、TEM和SAED分析表明，该涂层呈规则的立方晶体结构，晶粒尺寸＜10nm，且沉积在硼硅酸盐玻璃上的涂层具有(111)择尤取向，涂层厚度约10μm。