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赖富相; 张永生;
昆明技术物理研究所;
昆明;
650223;
西北核技术研究所;
西安;
710024;
XeF2 吸收截面 准分子激光;
机译:包含XeF2-配位金属离子[M(XeF2)(3)] [PF6)(2),[Pb-3(XeF2)(11)] [PF6)的六价金属磷酸盐(M)(M = Sr,Pb) )(6)和[Sr-3(XeF2)(10)](PF6)(6)
机译:Xe3OF3 +,稀有气体硝酸盐的前体; FXeONO2,XeF2·HNO3和XeF2·N2O4的合成及结构表征
机译:XeF2氧化钌和铱金属并确定[Xe2F3] [RuF6]?XeF2和[Xe2F3] [MF6]的晶体结构(M = Ru,Ir)
机译:XeF2蚀刻释放的GHz范围中的粗杆兰姆波谐振器
机译:BCl3和HF / XeF2对金属膜,金属氮化物和金属氧化物的原子层蚀刻
机译:使用XeF2作为反应气体的同步辐射辐照法对聚二甲基硅氧烷的蚀刻
机译:XeF3–在XeF2 / F–交换中的中间过程的NMR光谱证据,XeF3–盐的合成尝试和热化学以及XeF3–阴离子的理论研究
机译:高价化合物的赝势sCF-mO研究。 I. XeF2和XeF4
机译:ätzgasplasmalosen clf3或xef2蚀刻硅的方法
机译:利用腔室压力数据确定脉冲二氟化氙(XEF2)蚀刻的蚀刻参数
机译:高流量XEF2罐
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