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孙彦庆; 周临震; 冯嘉恒; 吴有德;
盐城工学院机械工程学院;
嘉兴科民电子设备技术有限公司;
原子层沉积; 反应室; 温度均匀性; 仿真分析;
机译:与通过原子层沉积法生长的ZnCoO薄膜的沉积温度有关的影响– Co分布,结构,光学,电和磁性能的均匀性
机译:原子层沉积ZnCoO薄膜-生长温度对钴分布均匀性的影响。
机译:基于电子偏振的高k Al2O3 / ZnO纳米胺,具有优异的温度稳定性和通过原子层沉积的超高储能密度
机译:精确工艺气体供应系统对Al_2O_3原子层沉积工艺温度的影响
机译:基于原子层沉积Nanofilms的自折叠微系统
机译:基于FT-IR和QM的气相环戊二烯基Tris(二甲基氨基)锆(CpZR(NME2)3)的原位监测系统的热分解基于FT-IR和原子层沉积
机译:基于饱和曲线的原子层沉积的共形状分析:横向高纵横比通道中的氧化铝
机译:化学气相沉积法生长mos2原子层的应变和结构非均匀性。
机译:用于在基底表面的部分上产生材料层的腔室,用于原子层和化学气相沉积,具有形成为辐射源的加热源,通过该加热源可以逐步改变基底表面上的温度
机译:氧化ha或氧化silicon硅的原子层沉积涉及使用using前驱体在基板上沉积材料,加热后基板的工艺温度在低温和高温之间波动
机译:原子层沉积装置的加热器模块,可以恒定地保持衬托器的温度
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