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王剑屏; 郝跃; 彭军; 朱作云; 张永华;
西安电子科技大学微电子所;
薄膜; 碳化硅; 异质外延; 表面缺陷; 腐蚀; 衬底;
机译:具有图案衬底的异质外延薄膜生长中应变岛的均匀性:快速动力学蒙特卡洛研究
机译:异质外延薄膜生长和表征的蒙特卡洛研究
机译:在表面缺陷存在下异质外延体系中单层生长的比较蒙特卡洛研究
机译:单晶α和β碳化硅中的外延薄膜生长和器件开发
机译:异质外延多晶硅碳化硅膜的应力应变管理。
机译:高质量异质外延薄膜生长钙钛矿型氧氮化钙CaTaO2N的研究:界面的重要性薄膜与基材之间的对称匹配
机译:异质外延中单层膜生长的蒙特卡罗比较研究 存在表面缺陷的系统
机译:晶体表面生长和异质外延单晶薄膜生长的方法
机译:碳化硅外延晶片,碳化硅外延晶片的制造方法,碳化硅外延晶片的制造装置以及碳化硅半导体元件
机译:异质外延晶体生长方法,异质外延晶体生长装置,异质外延晶体生长装置和半导体器件
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