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惠迎雪; 杭凌侠; 徐均琪;
西安工业学院,光电工程学院,西安,710032;
西北工业大学;
磁控溅射; 非平衡磁控溅射; 沉积速率; 工艺参数;
机译:直流磁控溅射法研究TiZrV / Pd薄膜的沉积速率
机译:斜角磁控溅射薄膜的沉积速率研究
机译:磁控溅射不同沉积速率CrNx薄膜的组织和力学性能比较研究
机译:硬和光学透明ZrO_2薄膜在反应性中频交流磁控溅射中的沉积速率提高
机译:磁控溅射薄膜涂层材料特性及摩擦学性能研究
机译:SC0.09Al0.91N和SC0.18A10.82N的外延生长通过磁控溅射对表面声波应用的磁控溅射薄膜
机译:倾斜角度下磁控溅射薄膜的沉积速率
机译:磁控溅射钽薄膜的原位相变研究
机译:具有高沉积速率的磁控溅射源
机译:磁控溅射源具有更高的靶材利用率和沉积速率
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