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用于X光成像系统像传递函数的Al静态成像靶

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摘要

介绍用热蒸发结合光刻技术以及离子束刻蚀或热磷酸腐蚀的方法 ,制备用于测量X光成像系统像传递函数的Al静态成像靶的工艺 .对两种腐蚀工艺进行了比较 ,确定离子束刻蚀是获得所需图形的理想方法 .经扫描电镜 (SEM)和台阶仪测量 ,Al静态成像靶的参数满足实验要求 .

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来源
《同济大学学报：自然科学版》 |2000年第5期|572-574|共3页
作者
徐平; 陆卫昌; 周斌; 王珏;
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作者单位

同济大学玻耳固体物理研究所;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类约束与加热;基础理论;
关键词
静态成像靶; 热蒸发; 光刻技术; X光成像系统;

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