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贾涛; 董磊; 张志国; 李德军;
天津师范大学物理与电子信息学院,天津300387;
铜铟镓硒(CIGS)薄膜; 射频磁控溅射; 薄膜形貌; 光学性能; 透光率; 工作气压;
机译:厚度对溅射沉积Nb2O5薄膜结构,形态和光学性能的影响
机译:溅射气压对射频磁控溅射生长MgNiO薄膜结构和光学性能的影响
机译:溅射功率对磁控溅射沉积Cu2ZnxCd1-xSnS4薄膜中Cd / Zn原子比和光学性能的影响:实验和第一性原理研究
机译:DC磁控溅射沉积的纳米结构锌氧化铝薄膜表面形态和光学性能的影响
机译:溅射沉积的二氧化f单层和二氧化ha-氧化铝纳米层压薄膜的结构,光学性能和热稳定性。
机译:磁控溅射沉积SrTiO3薄膜的纳米结构和光学性能研究
机译:磁控溅射沉积al掺杂ZnO薄膜:溅射参数对电学和光学性能的影响
机译:离子束溅射沉积高(Tc)超导薄膜的离子散射和溅射工艺研究:沉积参数的优化。
机译:铜铟镓硒(CIGS)薄膜,具有通过共溅射控制的成分
机译:半导体薄膜的RF溅射-使用极化阻抗和气压梯度来提供高沉积速率
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