2Cl_2/20O_2/Ar 环境中 Si_3N_4 陶瓷的高温腐蚀(英文)

摘要

使用ｔｈｅｒｍｏｇｒａｖｉｍｅｔｒｉｃ分析和表面分析法，对２％Ｃｌ２／２０％Ｏ２／Ａｒ环境中Ｓｉ３Ｎ４陶瓷在１１５０℃和１３５０℃时的化学反应进行了研究。在１１５０℃，ＳｉＯ２层Ｃｌ２有少的渗透趋向，氧扩散穿过ＳｉＯ２层而发生反应。但在１３５０℃，某些添加物和杂质，向表层和晶养扩散，且Ｃｌ２与Ｓｉ３Ｎ４的反应对腐蚀有较大影响。