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李映雪; 奚雪梅; 王兆江; 张兴; 王阳元; 林成鲁;
北京大学微电子研究所;
中国科学院上海冶金研究所;
SIMOX材料; 硅; 二氧化硅; 退火; 界面;
机译:通过在CO气氛中结合碳注入和退火在SiO_2 / Si界面形成外延3C-SiC纳米晶体
机译:退火气氛中离子诱导的缺陷和氧气浓度对SIMOX材料中掩埋氧化物层形成的影响
机译:退火对Cu / SiO_2和Cu / SiO_2 / Si(1 0 0)界面中择优取向的影响
机译:通过在湿气氛中的退火改进SiO_2 / Si界面性质
机译:复合材料试样测试,以评估路面层界面特性对开裂性能的影响。
机译:ZrO2纳米材料对低温Al对Cu异种钎焊Al-19Cu-11Si-2Sn填充金属润湿性和界面特性的影响
机译:谷值自由度对供体电子控制的影响 靠近si / siO_2界面
机译:裂纹扩展/挠度机制对陶瓷基复合材料(后印刷)中纤维涂层或界面特性的影响。
机译:H2 / O2退火在SI3N4 / SI界面上形成界面氧化物层
机译:通过H2 / O2退火在SI3N4 / SI界面上形成界面氧化物层
机译:具有预非晶化和激光热退火的低si / si界面接触电阻
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