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马智训; 廖显伯; 何杰; 程文超; 岳国珍; 王永谦; 刁宏伟; 孔光临;
中国科学院半导体研究所;
中国科学院半导体研究所超晶格与微结构国家重点实验室;
光致发光; 氧化硅; 半导体薄膜技术;
机译:尾态联合密度法研究氢化非晶碳化硅薄膜的室温光致发光光谱及其在等离子体沉积氢化非晶碳化硅薄膜中的应用
机译:通过快速热退火工艺提高氢化非晶碳化硅薄膜的光致发光
机译:碳含量和等离子体功率对PECVD沉积氢化非晶碳化硅薄膜室温光致发光特性的影响
机译:螺旋波等离子体化学气相沉积法沉积氢化非晶硅氮化硅薄膜的光致发光特性
机译:非晶锌-锡-氧薄膜和非晶铟-镓-氧薄膜的物理性质和局部结构。
机译:通过快速热退火工艺增强氢化非晶碳化硅薄膜的光致发光
机译:氢化富氮非晶氮化硅薄膜中光诱导缺陷的微观起源。
机译:气相法合成氢化非晶碳化硅薄膜和氟转化非晶硅的方法无效
机译:稳定氢化非晶硅和非晶氢化硅合金的方法
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