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立体光刻技术制备三维光子晶体

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摘要

以三维金刚石结构光子晶体为例,采用立体光刻技术(SLA)进行三维光子晶体的制备研究.微波透射谱测试表明,所制备的光子晶体的禁带分布在12.3～13.4GHz之间,与理论计算值一致,表明立体光刻技术可用于复杂三维光子晶体结构的制备研究.

著录项

来源
《半导体学报》 |2007年第z1期|357-359|共3页
作者
文景; 尹海清; 张瑞娟; 曹文斌;
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作者单位

北京科技大学材料科学与工程学院;

无机非金属材料系;

北京;

100083 北京科技大学材料科学与工程学院;

粉末冶金研究所;

北京;

100083 北京科技大学材料科学与工程学院;

无机非金属材料系;

北京;

100083 北京科技大学材料科学与工程学院;

无机非金属材料系;

北京;

100083;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类光刻、掩膜;
关键词
立体光刻技术; 光子晶体; 光子禁带; CAD;

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