磁控溅射制备掺银TiO2薄膜的光催化特性研究

邱成军; 曹茂盛; 张辉军; 刘红梅; 田风军; 刘鑫

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利用交流磁控溅射设备采用金属Ti靶在石英和硅衬底制备掺银TiO2薄膜,并利用SEM,XRD及吸收光谱等方法分析测试TiO2薄膜的性质,探讨了掺银对TiO2薄膜吸收光谱的影响.并通过对甲基橙溶液浓度变化研究了掺银TiO2薄膜光催化特性,分析了掺银对TiO2薄膜增强光催化作用的工作机理,研究结果表明掺银有利于TiO2薄膜对有机物的降解作用.

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来源
《材料工程》 |2005年第10期|35-3746|共4页
作者
邱成军; 曹茂盛; 张辉军; 刘红梅; 田风军; 刘鑫;
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作者单位

黑龙江大学,集成电路重点实验室,哈尔滨150080;

北京理工大学,材料科学与工程学院,北京100081;

黑龙江大学,集成电路重点实验室,哈尔滨150080;

黑龙江大学,集成电路重点实验室,哈尔滨150080;

黑龙江大学,集成电路重点实验室,哈尔滨150080;

黑龙江大学,集成电路重点实验室,哈尔滨150080;

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正文语种 chi
中图分类 TQ134.17;
关键词
薄膜; 锐钛矿相; 射频磁控溅射; 光催化活性;

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