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彭洁; 李子全; 刘劲松; 蒋明; 许奇;
南京航空航天大学材料科学与技术学院,南京211106;
南京化工职业技术学院,南京210048;
Ge/SiO2多层薄膜; 射频磁控溅射; 退火温度; UV-VIS光谱; 小角度X射线衍射;
机译:沉积和退火温度对Geox膜和多层GE / SiO2结构形成的锗纳米晶体发光的影响
机译:SiGe层厚度对井组织SiGE / SiO2多层结构和光学性能的影响
机译:退火温度对SiO2:RE2O3 [RE = Y,Gd]粉末的结构和光学性能的影响
机译:退火温度对Ge0.2te0.8的状态密度,电气和光学性能的影响
机译:退火温度对Sol-Gel ZnO薄膜力学性能的影响。
机译:烧结温度对ZnO纳米粒子混合热处理后的椰壳灰SiO2结构和光学性能的影响
机译:Mev Si离子和热退火对SiO2 / SiO2 + Ge多层纳米薄膜热电和光学性能的影响
机译:用于热电器件的超晶格siO2 / siO2 + Ge多层薄膜。
机译:荧光膜,荧光膜的形成方法,多层介电膜,光学元件,光学系统,成像单元,光学性能测量装置,光学性能的测量方法,曝光装置,曝光方法和制造方法
机译:能够提供具有高光学性能的液晶校正膜的液体结晶校正剂,能够获得电光学性能和可靠性,以及包括液晶校正膜和液体液晶校正膜的液晶显示装置
机译:用更高难度的等离子体设备测量选择性高的SIO2对SIO2的影响
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