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用Ⅲ-V族化合物半导体制备二维光子晶体

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摘要

随着光电子技术和精密加工技术的快速发展,光电子元件的尺寸也越来越小,在制作这些元件的技术中,电子束刻蚀作为制备光子晶体最为稳定可靠的方法,其发展被人们所关注.为此介绍了用电子束刻蚀工艺制备二维光子晶体的方法.

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来源
《喀什大学学报》 |2004年第6期|30-32|共3页
作者
阿不都热苏力;
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作者单位

新疆大学物理系;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类半导体晶体物理;
关键词
光子晶体; 蚀刻技术; 湿蚀刻; 干蚀刻; 光阻材料;

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