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徐瑛; 李佐宜; 熊锐; 胡作启;
光学性能; 磁盘; 氮化钛薄膜; 磁控溅射; 制备; 光盘;
机译:在面对靶溅射(FTS)系统中通过直流反应溅射制备的TiN薄膜的电学和比色性能
机译:溅射功率和溅射压力影响RF溅射纳米ZnO薄膜的结构和光学性能
机译:Ag离子注入调整TiN薄膜的结构和光学性能
机译:衬底温度和偏压对溅射镀膜TiN薄膜光学性能的影响
机译:RF溅射法制备Si / Ingan异质结太阳能电池:改进氮化铟镓(IngaN)薄膜的电气和光学性能
机译:磁控溅射制备Cu3N / MoS2异质结及其结构和光学性能研究
机译:溅射功率对RF溅射光学性能的影响Ti6Al4V薄膜
机译:用于THz sIs混频器调谐电路的低损耗NbTiN薄膜
机译:制造基于钕铁硼的稀土粉或溅射靶,基于钕铁硼的稀土粉或溅射靶以及基于钕铁硼的薄膜的稀土或稀土的制备工艺
机译:用于形成TiN薄膜的设备和使用该设备的MOCVD-TiN薄膜的形成方法
机译:高纯度钇,高纯度钇的制备工艺,高纯度钇溅射靶,沉积有高纯度钇靶的金属栅膜,以及装有金属栅膜的半导体元件和器件
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