碳化硅粒度及表面活性剂对Ni-SiC复合镀层中碳化硅含量及分布均匀性的影响

摘要

本文在电沉积镍的镀液中添加SiC颗粒于铜基体上制备Ni-SiC复合镀层,研究了表面活性剂种类和增强颗粒粒度对Ni-SiC复合镀层中碳化硅含量及分布均匀性的影响.SiC颗粒的粒度影响形核过电位,40 nm SiC颗粒比500 nm SiC颗粒提供更多成核活性点,且对于镍电结晶形核促进作用更明显.表面活性SDS对40 nm SiC颗粒的分散效果较CTAB更好,二者对500 nm SiC颗粒分散效果相似.CTAB从某种程度上增加了SiC颗粒的含量,但对于SiC颗粒的分散效果不佳,SiC颗粒仍有大量团聚,且通过阳离子表面活性剂CTAB所获镀层表面比较暗淡、粗糙.