离子液体中电沉积Si_xGe_(1-x)薄膜的微观结构研究

摘要

采用离子液体电沉积技术以ITO玻璃为基片以0.1mol/L Si Cl4+Ge Cl4的离子液体Py1.4Tf2N混合溶液作为电解液,利用循环伏安扫描法确定Si、Ge在离子液体中的共还原电位,完成Si、Ge的共沉积,制备出SixGe1-x薄膜.并对其电化学沉积机理进行分析.利用X射线衍射仪(XRD)、扫描探针显微镜(SPM)、拉曼光谱(Raman)对样品的结构、表面进行了测量和分析.