连续型平面衍射聚光透镜掩模的制作

摘要

针对目前二元光学元件掩模制作工艺过程的诸多不足,对连续型平面衍射聚光透镜掩模的激光直写制作工艺进行了研究.基于基尔霍夫标量衍射理论,采用光线追迹法设计了连续型平面衍射聚光透镜掩模.采用激光直写技术,利用CLWS-300M/C极坐标激光直写设备、S1830光刻胶和MICROPOSIT-351显影液,进行了刻写实验.实验表明,激光能量、预烘烤温度、显影液浓度以及预曝光对掩模微结构的制作均有影响.最后制作了掩模.与二元光学元件掩模的制作工艺相比,该技术具有工艺简单、制作周期短且易于操作的优点.