UV/CeO_(2)耦合Oxone深度处理制药废水的研究

摘要

本研究通过简便的水热和煅烧两步法合成了CeO_(2),采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)对CeO_(2)的微观形貌和晶型结构进行了表征;为提高实际制药废水深度氧化处理的效果,Oxone试剂被引入UV/CeO_(2)氧化体系。研究结果表明,UV辐照协同CeO_(2)可高效活化Oxone试剂产生SO_(4)^(·-)、SO_(5)^(·-)和·OH等多种活性氧化物质,实现制药废水深度氧化的目的;溶液pH、Oxone用量、CeO_(2)用量、反应温度等因素影响制药废水COD和TOC的去除效果,在制药废水初始COD为326 mg/L、TOC为132.6 mg/L、Oxone质量浓度为1.0 g/L、CeO_(2)质量浓度为0.6 g/L、pH为6.86、温度为30℃、反应时间为60 min时,UV/CeO_(2)耦合Oxone氧化工艺对实际制药废水COD的去除率达到90.21%,TOC去除率为76.99%。UV/CeO_(2)耦合Oxone氧化具有潜在的工业应用前景。