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半导体生产含砷废水处理回用工程

         

摘要

The four-section combined process,chemical precipitation-electrocoagulation-DAF-membrane separation, has been applied to the treatment of arsenic-containing wastewater. After the raw water ,whose arsenic content is 180-230 mg/L,has been treated by this process,the arsenic content of effluent is reduced to less than 0.03 mg/L, and the removing rate is more than 99.9%. The running result of the project shows that the system runs stably ,and has high treatment efficiency. The produced clear water can be used as circulating cooling water ,lowering the pro-duction cost greatly.%采用沉淀法—电絮凝法—气浮法—膜分离法四段组合工艺对含砷废水进行处理,原水含砷180~230 mg/L,经该工艺处理后出水含砷<0.03 mg/L,去除率>99.9%.工程运行实践证明:该系统运行稳定、处理效果高,产出的清水用作生产用循环冷却水,大大降低了生产成本.

著录项

  • 来源
    《工业水处理》 |2017年第4期|96-98|共3页
  • 作者单位

    云南中科鑫圆晶体材料有限公司,云南 昆明650503;

    云南中科鑫圆晶体材料有限公司,云南 昆明650503;

    云南中科鑫圆晶体材料有限公司,云南 昆明650503;

    云南中科鑫圆晶体材料有限公司,云南 昆明650503;

    云南中科鑫圆晶体材料有限公司,云南 昆明650503;

    云南中科鑫圆晶体材料有限公司,云南 昆明650503;

    云南中科鑫圆晶体材料有限公司,云南 昆明650503;

    云南中科鑫圆晶体材料有限公司,云南 昆明650503;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 废水的处理与利用;
  • 关键词

    含砷废水; 回用; 半导体材料;

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