湿法刻蚀制备微透镜阵列的影响因素

摘要

湿法刻蚀在直接制备微透镜阵列以及制备微透镜阵列复制模具中得到了广泛应用.文章从基材、刻蚀保护层、曝光方式、刻蚀液、刻蚀工艺条件几个方面,介绍其对湿法刻蚀制备凹微透镜阵列品质的影响,并给出了批量制备高良率的微透镜阵列的建议.