4产品名称-I等离子体浸没离子注入机（PⅢ）

摘要

研制单位： 中国科学院微电子研究所 产品介绍： 研制产品针对等离子体浸没式离子注入技术（Plasma Imersion Ion Implantation，简称PⅢ），该技术是一种全新原理的半导体掺杂技术，它是将晶圆直接浸没在等离子体中，通过在晶圆上施加注入能量从而实现离子的掺杂。同时在进行超低能注入时还可实现高的注入剂量和高产能。