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Renk.JP; 万力;
不详;
光学光刻技术; CD控制; 远紫外光; 硅圆片;
机译:圆二色性(CD)在蛋白质结构分析中的应用:鉴定蛋白质高阶结构分析的近紫外和远紫外CD。
机译:pH和温度诱导的马鞭毛毒素II的熔融球状变性状态:通过紫外熔融,DSC,远紫外和近紫外CD光谱以及ANS荧光进行的研究
机译:在 z italic> = 3时的Lyman断裂星系的静止帧远紫外至远红外视图:3模板和尘埃衰减? xref >
机译:用于MARS任务的广泛领域远紫外光谱仪的设计
机译:遥远的物体望远镜:远紫外线源远紫外线光谱的初步观察。
机译:通过深紫外光刻技术对共面聚乙二醇烷基硅烷单层进行直接图案化作为高保真长期细胞图案化和培养的通用方法
机译:近紫外(313-405纳米)与远紫外(254〜405纳米)和远紫外(254纳米)辐射之间的比较诱变和相互作用,具有不同的修复能力
机译:H(无穷远)控制理论及其在航天领域的应用
机译:远紫外线区域的光刻技术。
机译:远紫外光刻技术的抗蚀剂组成及其用途
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