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晶体生长过程中的抗干扰技术探讨

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摘要

针对晶体生长过程中所遇到的几种干扰,提出了在晶体生长设备设计和制造中需要注意的几个问题.

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来源
《电子工业专用设备》 |2000年第4期|46-49|共4页
作者
梁秀梅;
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作者单位

西安理工大学,陕西,西安,710048;

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正文语种 chi
中图分类其他炉;
关键词
晶体; 抗干扰技术; 光电隔离; 整形处理; 容错纠错技术;

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