含氟硅酸的镀液成分对镀铬板性能的影响

摘要

针对两步法镀铬工艺,采用电化学实验、X射线光电子能谱(XPS)以及扫描电子显微镜(SEM)等检测手段,就镀液中H_(2)SiF_(6)与CrO_(3)的含量对镀铬液特性,镀层表面氧化铬和金属铬含量、孔隙率,以及镀铬板电化学性能的影响进行了分析。结果表明,CrO_(3)含量对镀液电导率有明显影响,镀层内铬氧化物的含量以及镀液的pH主要由镀液内H_(2)SiF_(6)的含量所控制。第一步镀铬时,在镀液中H_(2)SiF_(6)为1.75 g/L、CrO_(3)为150 g/L、H_(2)SO_(4)为0.7 g/L的条件下,镀铬板的腐蚀电位较正,腐蚀电流密度较小;在第二步镀铬中,当H_(2)SiF_(6)为0.30 g/L、CrO_(3)为34 g/L、H_(2)SO_(4)为0.35 g/L时,镀铬板腐蚀电位较正,腐蚀电流密度较小。在此条件下镀液具备较高的电导率,所得膜层的孔隙率较低。