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刘健; 杨雨婷; 江燕; 张艳飞;
无锡中微亿芯有限公司 江苏无锡214072;
28nm工艺; useful skew; early clock; 时钟树综合; 布局布线; Innovus工具;
机译:用于半导体工艺的20nm滤光片的性能:评估20nm区域中的颗粒去除性能的方法和先进的滤光片性能
机译:MuCCRA-4的真实芯片评估,MuCCRA-4是使用STmicro 28nm工艺的动态可重配置处理器
机译:在28 nm FDSOI CMOS前端CMP工艺的芯片规模上进行高分辨率纳米形貌表征
机译:高性能块状平面20nm替代栅极high-k金属栅极技术的内在电介质堆叠可靠性以及与28nm栅极首次高k金属栅极工艺的比较
机译:考虑工艺参数和可变性的时钟树分析和综合。
机译:基于光聚合的交叉扩散的流体芯片按需台式制造工艺
机译:在一次1½小时吸入暴露后,在新生成的,原始,20nm银纳米粒子气溶胶中的28天,原始的,原始,20nm银纳米粒子气溶胶
机译:三模冗余同步架构中实现单源冗余时钟树时竞争条件的影响。
机译:具有选择性透射滤光器的LCD,在440 +/- 20nm的波长区域具有80%或更高的透光率; 525 +/- 25nm和565 +/- 45nm,并且在470至485nm和575至595nm时为10%或更少
机译:时控PET研究中基于门的基于MR的衰减校正的方法和装置
机译:用于20nm以下鳍距的自对准四重图案化工艺
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