首页> 中文期刊> 《军民两用技术与产品》 >我国最新一代集成电路制造工艺研发取得突破

我国最新一代集成电路制造工艺研发取得突破

         

摘要

cqvip:中国科学院微电子研究所集成电路先导工艺研发中心在22nm技术代集成电路关键技术研发上取得突破性进展,掌握这种工艺将有利于提升我国自主生产制造更加质优价廉的集成电路产品的能力。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号