高精度镍微柱阵列模具的制造

摘要

使用基于SU-8胶的微电铸工艺制造了一款微柱宽度为200μm,高度为300μm,柱间隙最小为200μm的镍微柱阵列模具.针对制造过程中SU-8光刻胶去胶难的问题,提出了一种预置溶胀间隙的方法.该方法可以使完整的胶膜分割成许多独立单元,独立的胶膜单元在去胶时溶胀破裂,脱离金属微结构.去胶释放后微柱结构表面光洁、无残余光刻胶,微柱阵列的宽度尺寸误差低至1.35％.研究表明:预置溶胀间隙的方法具有易操作、成本低等优点,可以应用于微小结构的去胶.