GMA改性超支化聚合物的合成及在光致抗蚀剂中的应用

摘要

通过巯基链转移支化聚合法,以4-乙烯基苄硫醇(VBT)为支化单体,丙烯酸正丁酯(BA)、苯乙烯(St)、丙烯酸(AA)为共聚单体,偶氮二异丁腈(AIBN)为引发剂,丙二醇甲醚醋酸酯(PMA)为溶剂,合成了HBPs。利用甲基丙烯酸缩水甘油酯(GMA)环氧基与HBP羧基的反应,向HBP中引入双键制备了具有碱溶性和光固化特性的G-HBP。采用FT-IR、1H-NMR、DSC、凝胶色谱(GPC)-激光光散射(LS)-示差黏度(DV)三检测仪表征了聚合物的结构及性能,验证了其超支化结构;将合成的G-HBP用作负性光致抗蚀剂的主体树脂,测试了光致抗蚀剂显影成像过程参数。结果表明,显影时间为40 s,去膜时间为30 s,感度级数为7级。抗蚀剂性能优异,分辨率可达到40μm。