EIS Study on Pitting Corrosion of AA5083-H321 Aluminum-Magnesium Alloy in Stagnant 3.5 NaCl Solution

摘要

在这研究， EIS (电气化学的阻抗光谱学) 技术被利用在 3.5% NaCl 答案学习 AA5083-H321 铝镁合金的 pitting 腐蚀行为。阻抗系列在样品的暴露的 240 h 期间被获得到测试答案。样品的表面和剖面图被扫描电子显微镜学(SEM ) 和 EDAX 学习(精力 X 光检查的散分析) 分析。结果显示因为金属间化合的粒子上的被动的层的抵抗是很小的，样品表面层上的这个参数被纯被动的层的控制。然而，在建议相等的电路的电容器被经常的阶段元素(用户终端设备) 代替，由于表面上的 pitting 腐蚀的不一致和出现。通过被动的层并且这层变厚的离子以后在开始的 24 h 和增加引起阻抗减少的 Al+3 的外面的散开。从一些坑和在一些其它内的腐蚀产品的累积的金属间化合的粒子的分开是在金属间化合的粒子的顶上阻止阴极的反应的继续的因素。