首页> 中文期刊> 《固体电子学研究与进展》 >中子辐照的单晶硅参数研究

中子辐照的单晶硅参数研究

         

摘要

在不同温度和红外光照下,测量了经中子辐照的单晶硅表面光电压,确定了其深能级的位置和少子扩散长度;由双能级复合理论,推导了中子辐照单晶硅的深能级复合中心和寿命的计算公式;计算了热中子辐照和高能中子辐照单晶硅后的深能级密度、费米能级和其他有关重要参数。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号